大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設(shè)計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關(guān)閉,卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3個晶片,速度最大1500rpm,腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號,獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學品分配,2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3種晶片尺寸
最高轉(zhuǎn)速1500rpm
腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450是為光刻膠勻膠甩膠應用設(shè)計的高精度旋涂儀器,適用于直徑450mm以下的基片使用。手動化學分配,2條自動靜態(tài)分配線,氣動蓋打開和關(guān)閉,卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3個晶片,速度最大1500rpm,腔室最大直徑約450mm
大型旋涂儀POLOS450規(guī)格參數(shù)
桌面型號,獨立版本
適合直徑不超過450mm的襯底
手動化學品分配,2條自動靜態(tài)分配線
氣動蓋打開和關(guān)閉
卡盤適配器和一個真空卡盤,最多可用于3種晶片尺寸
最高轉(zhuǎn)速1500rpm
腔室最大直徑約450mm