1. 產(chǎn)品概述
AG防眩層膜厚儀: 按照客戶需求搭建的防眩薄膜厚度特性表征工具。
AG防眩層膜厚儀 是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備，可用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的防眩膜層。
AG防眩層膜厚儀 是為客戶量身定制的，并廣泛應用于各種不同的應用。
比如：
吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…
2. AG防眩層膜厚儀應用
大學&研究實驗室、半導體行業(yè)、高分子聚合物&阻抗表征、電介質(zhì)特性表征、
生物醫(yī)學、硬涂層，陽極氧化，金屬零件加工、、光學鍍膜、非金屬薄膜等等…
AG防眩層膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，核心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。
通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
3. 膜厚儀規(guī)格（Specificatins ）
Model | UV/Vis | UV/NIR -EXT | UV/NIR-HR | D UV/NIR | VIS/NIR | D Vis/NIR | NIR |
光譜范圍 (nm) | 200 – 850 | 200 –1020 | 200-1100 | 200 – 1700 | 370 –1020 | 370 – 1700 | 900 – 1700 |
像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 |
厚度范圍 | 1nm – 80um | 3nm – 80um | 1nm – 120um | 1nm – 250um | 12nm – 100um | 12nm – 250um | 50nm – 250um |
測量n*k 蕞小范圍 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm |
準確度*,** | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 1nm or 0.2% | 2nm or 0.2% | 3nm or 0.4% |
精度*,** | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.1nm |
穩(wěn)定性*,** | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.15nm |
光源 | 氘燈 & 鎢鹵素燈(內(nèi)置) | 鎢鹵素燈(內(nèi)置) | |||||
光斑 (直徑) | 350um (更小光斑可根據(jù)要求選配) | ||||||
材料數(shù)據(jù)庫 | > 600 種不同材料 | ||||||
4. 膜厚儀配件
電腦 | 13~19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦 |
聚焦模塊 | 光學聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um |
薄膜/比色皿容器 | 在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量（選配） |
接觸式探頭 | 用于涂層厚度測量和光學測量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品（選配） |
顯微鏡 | 用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量（選配） |
Scanner (motorized) | 帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射率和透射率測量（選配） |
積分球 | 用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射（選配） |
手動 X-Y 樣品臺 | 測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺（選配） |
加熱模塊 | 嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).（選配） |
液體模塊 | 聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具，用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中（選配） |
流通池 | 液體中吸光率、微量熒光測量（選配） |
5. 膜厚儀工作原理
白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經(jīng)多層或單層薄膜反射后，經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學常數(shù)。
* 規(guī)格如有更改，恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。
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