紫外掩膜曝光系統(tǒng)是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光機(jī)和LED掩膜曝光機(jī)，是一種冷光源紫外LED掩膜曝光裝置，它提供標(biāo)準(zhǔn)的365nm紫外線,可適用6英寸晶圓，兼容硬接觸和軟接觸過程，并具有可變掩膜和襯底距離控制功能。

紫外掩膜曝光系統(tǒng)適合光學(xué)，生物科技，微電子，晶圓鍵合，固化，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用，廣泛用于紫外曝光固化。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)是單色紫外發(fā)射，具有35mW/cm^2的功率密度，在6英寸的面積上光源均勻度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光機(jī)。
這套紫外掩膜曝光系統(tǒng)采用了**的LED光源技實(shí)現(xiàn)單波長紫外冷光源照明，有效消除熱效應(yīng)，非常適合實(shí)驗(yàn)室或超凈間的紫外曝光使用。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，方便移動(dòng)，采用觸摸屏控制操作，有效安全控制自我曝光室。
紫外掩膜曝光系統(tǒng)的LED紫外光源壽命高達(dá)1萬小時(shí)，非?？煽慷陀?，不需要日常維護(hù)，非常方便使用。

紫外掩膜曝光系統(tǒng)特點(diǎn)
非常緊湊，桌上使用設(shè)計(jì)
的紫外單色LED冷光源
***大工作面積為4英寸晶圓
適合所有光刻膠
分辨率：2微米
無需預(yù)熱，直接開機(jī)使用
實(shí)時(shí)溫度控制功能確保均勻曝光
紫外照明功率強(qiáng)度可調(diào)
可單次曝光或連續(xù)曝光
適合光學(xué)，生物科技，微電子，晶圓鍵合，固化，細(xì)胞培養(yǎng)等多種應(yīng)用

紫外掩膜曝光系統(tǒng)參數(shù)
波長：365nm
功率密度：40mW/cm^2
曝光過程中襯底溫度上升：<1攝氏度
曝光時(shí)間：1秒到18小時(shí)
可編程控制循環(huán)：10個(gè)
分辨率：2微米
外部尺寸：260x 260x260mm
重量：8.2kg
彩色觸摸屏：5.7英寸
供電要求：230V
用電功耗：200W