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半導(dǎo)體微電子設(shè)備

貼片機(jī)鍵合機(jī)

等離子體處理

勻膠儀

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XWS寬帶等離子體光源參考價(jià)：面議
這款寬帶等離子體光源XWS是激光泵浦等離子體超亮度光源,輸出光譜范圍180nm ~2500nm,輸出光功率高達(dá)40W,可替代傳統(tǒng)氣體放電光源（如氙燈、氘燈、鎢燈...
型號(hào)： FPIST-XWS... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

寬帶等離子體光源等離子體光源超亮度光源激光泵浦等離子體寬帶光源

2024/11/7 11:28:41652
等離子體芯片開封機(jī) 參考價(jià)：面議
這款等離子體芯片開封機(jī)利用大氣微波等離子體針產(chǎn)生的氧氣等離子體分解IC封裝模塑實(shí)現(xiàn)IC封裝脫封和開帽。
型號(hào)： FPNIP-MP1... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

芯片開封機(jī)等離子體開封機(jī)IC脫封IC開帽IC封裝

2024/8/24 16:58:101039
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是為等離子化學(xué)蝕刻系統(tǒng)應(yīng)用設(shè)計(jì)的反應(yīng)離子蝕刻RIE和ICPCVD系統(tǒng),將反應(yīng)離子刻蝕RIE和電感耦合等離子體刻蝕ICP兩種等離子...
型號(hào)： FPSEM-icp... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)離子蝕刻電感耦合等離子體刻蝕ICP

2024/8/1 11:00:18704
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是采用PECVD技術(shù)專業(yè)為介質(zhì)膜鍍膜設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
型號(hào)： FPSEM-ICP... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)等離子體化學(xué)氣相沉積PECVD化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積

2024/8/1 10:46:32769
離子體灰化蝕刻系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體灰化蝕刻系統(tǒng)e3600采用zuixin的光刻膠去除技術(shù),為去除晶圓光刻膠提供高效方案?？梢栽诓桓淖冇布那闆r下同時(shí)處理不同尺寸的晶圓。
型號(hào)： FPESI-E36... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

離子體灰化等離子體蝕刻晶圓去膠光刻膠去除

2024/4/25 10:10:07261
科研型原子層沉積系統(tǒng),picosun公司ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
科研型原子層沉積系統(tǒng)ALD系芬蘭picosun公司R-200 standard原子層沉積技術(shù),熱壁設(shè)計(jì)和單獨(dú)的入口，可實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒工藝，適用于晶圓，3D對(duì)象和所有...
型號(hào)： FPPIC-R-2... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

原子層沉積原子層沉積系統(tǒng)原子層沉積技術(shù)picosunALD

2022/11/14 11:20:261063
ALD系統(tǒng),共形導(dǎo)電薄膜,原子層沉積參考價(jià)：面議
ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導(dǎo)電薄膜解決方案，同時(shí)還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長(zhǎng)的傳統(tǒng)2D涂層。
型號(hào)： FPANR-AT4... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

ALD系統(tǒng)ALD原子層沉積原子層沉積系統(tǒng)PVD薄膜

2022/11/14 11:18:38477
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應(yīng)用提供緊湊、經(jīng)濟(jì)、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
型號(hào)： FPANG-COV... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

物理氣相沉積系統(tǒng)物理氣相沉積氣相沉積系統(tǒng)COVAPPVD

2022/11/14 11:13:09518
離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜參考價(jià)：面議
離子束沉積系統(tǒng)IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實(shí)現(xiàn)離子束沉積濺射鍍膜。然后，來(lái)自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
型號(hào)： FPTOR-IBD 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

離子束沉積系統(tǒng)離子束沉積濺射鍍膜離子束沉積離子束沉積鍍膜濺射鍍膜

2022/11/14 11:04:43625
電子束蒸發(fā)系統(tǒng),EB-4P電子shu沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
型號(hào)： FPTOR-EB-... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)電子束蒸發(fā)電子束沉積系統(tǒng)電子束沉積沉積系統(tǒng)

2022/10/24 11:42:58688
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),等離子體反應(yīng)li子蝕刻機(jī) 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)???????RIE600W是一款進(jìn)口等離子體反應(yīng)離子蝕刻機(jī),用于各向同性蝕刻,蝕刻氧化物、氮化物、聚合物等薄膜。
型號(hào)： FPTOR-RIE... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)離子刻蝕反應(yīng)離子蝕刻機(jī)離子蝕刻機(jī)等離子體刻蝕

2022/10/19 17:45:20735
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),ICP-RIE蝕刻系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
???????感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺(tái)...
型號(hào)： FPTOR-ICP... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

離子刻蝕感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻離子刻蝕系統(tǒng)各向異性刻蝕ICP-RIE蝕刻

2022/10/19 17:42:25557
矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)器,VNA自動(dòng)校準(zhǔn)儀參考價(jià)：面議
該矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)器模塊通過(guò)USB或5.5 DC連接器通電，并通過(guò)USB或LAN與VNA進(jìn)行通信，通過(guò)一個(gè)啟動(dòng)按鈕，可通過(guò)VNA的四端口校準(zhǔn)完成一個(gè)端口。
型號(hào)： FPWAV-VNA 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀校準(zhǔn)VNA校準(zhǔn)儀VNA校準(zhǔn)矢量分析儀

2022/10/7 16:11:58545
高級(jí)等離子體表面處理系統(tǒng),表面活化增強(qiáng) 參考價(jià)：面議
高級(jí)等離子體表面處理系統(tǒng)NEBULA是為器件等離子體處理設(shè)計(jì)的大型等離子體處理機(jī)器,離子體表面處理系統(tǒng)NEBULA用于等離子體清潔、附著力改善,等離子體表面活化...
型號(hào)： FPPRI-NEB... 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：上海市對(duì)比

等離子體表面處理等離子體處理離子體處理機(jī)等離子體清潔表面活化增強(qiáng)

2022/10/5 14:27:50599

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